Matching Properties of Deep Sub-Micron MOS Transistors /

Contenido: 1) Introducción: 2) Mediciones y modelado del desajuste; 3) Extracción de parámetros; 4) Orígenes físicos de desajuste en transistores MOSFET [Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistors]; 5) Aspectos técnicos; 6) Impacto de la rugosidad en el borde de la línea; 7) Conclusiones: tr...

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Croon, Jeroen A. (autor)
Otros autores: Sansen, Willy M.C. (autor) (autor), Maes, Herman E. (autor) (autor)
Formato: Libro
Idioma:Inglés
Publicado: Nueva York, EUA : Springer, 2005, c2005
Colección:(The Kluwer International Series in Engineering and Computer Science ; Analog Circuits and Signal Processing) 851.
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Descripción
Resumen:Contenido: 1) Introducción: 2) Mediciones y modelado del desajuste; 3) Extracción de parámetros; 4) Orígenes físicos de desajuste en transistores MOSFET [Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistors]; 5) Aspectos técnicos; 6) Impacto de la rugosidad en el borde de la línea; 7) Conclusiones: trabajo futuro y pronósticos.
Descripción física:X, 206 p.
ISBN:0-387-24314-3