IC Mask Design : Essential Layout Techniques /
Guía para el proceso de diseño de bocetos de circuitos integrados. Contenido: Boceto digital; Técnicas celulares estándar; Boceto analógico; Pegado; Coincidencia; Asuntos relacionados con el ruido; Planeación de planta; Técnicas generales; Empacado; Verificación; Formatos de datos; Casos de estudio:...
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| Autor principal: | |
|---|---|
| Altres autors: | |
| Format: | Llibre |
| Idioma: | anglès |
| Publicat: |
Nueva York, EUA :
McGraw-Hill,
2002, c2002
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| Col·lecció: | (McGraw-Hill Professional Engineering)
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| Matèries: | |
| Etiquetes: |
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MARC
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| 245 | 1 | 0 | |a IC Mask Design : |b Essential Layout Techniques / |c C. Saint, J. Saint. |
| 264 | 4 | |a Nueva York, EUA : |b McGraw-Hill, |c 2002, c2002 | |
| 300 | |a XVIII, 457 p. | ||
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| 338 | |a volumen |b nc |2 rdasoporte | ||
| 440 | 1 | |a (McGraw-Hill Professional Engineering) | |
| 520 | |a Guía para el proceso de diseño de bocetos de circuitos integrados. Contenido: Boceto digital; Técnicas celulares estándar; Boceto analógico; Pegado; Coincidencia; Asuntos relacionados con el ruido; Planeación de planta; Técnicas generales; Empacado; Verificación; Formatos de datos; Casos de estudio: Amplificador CMOS; Mezclador bipolar. | ||
| 649 | |a XX | ||
| 650 | |a Circuitos Impresos - |x Diseño y Construcción | ||
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