IC Mask Design : Essential Layout Techniques /

Guía para el proceso de diseño de bocetos de circuitos integrados. Contenido: Boceto digital; Técnicas celulares estándar; Boceto analógico; Pegado; Coincidencia; Asuntos relacionados con el ruido; Planeación de planta; Técnicas generales; Empacado; Verificación; Formatos de datos; Casos de estudio:...

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Bibliographic Details
Main Author: Saint, Christopher (autor)
Other Authors: Saint, Judy (autor) (autor)
Format: Book
Language:English
Published: Nueva York, EUA : McGraw-Hill, 2002, c2002
Series:(McGraw-Hill Professional Engineering)
Subjects:
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Description
Summary:Guía para el proceso de diseño de bocetos de circuitos integrados. Contenido: Boceto digital; Técnicas celulares estándar; Boceto analógico; Pegado; Coincidencia; Asuntos relacionados con el ruido; Planeación de planta; Técnicas generales; Empacado; Verificación; Formatos de datos; Casos de estudio: Amplificador CMOS; Mezclador bipolar.
Physical Description:XVIII, 457 p.
ISBN:0-07-138996-2