IC Mask Design : Essential Layout Techniques /
Guía para el proceso de diseño de bocetos de circuitos integrados. Contenido: Boceto digital; Técnicas celulares estándar; Boceto analógico; Pegado; Coincidencia; Asuntos relacionados con el ruido; Planeación de planta; Técnicas generales; Empacado; Verificación; Formatos de datos; Casos de estudio:...
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| Other Authors: | |
| Format: | Book |
| Language: | English |
| Published: |
Nueva York, EUA :
McGraw-Hill,
2002, c2002
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| Series: | (McGraw-Hill Professional Engineering)
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| Subjects: | |
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| Summary: | Guía para el proceso de diseño de bocetos de circuitos integrados. Contenido: Boceto digital; Técnicas celulares estándar; Boceto analógico; Pegado; Coincidencia; Asuntos relacionados con el ruido; Planeación de planta; Técnicas generales; Empacado; Verificación; Formatos de datos; Casos de estudio: Amplificador CMOS; Mezclador bipolar. |
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| Physical Description: | XVIII, 457 p. |
| ISBN: | 0-07-138996-2 |