Thin-Film Deposition : Principles and Practice /
Contenido: 1. Tecnología de las películas delgadas; 2. Cinética del gas; 3. Tecnología del vacío; 4. Evaporación; 5. Deposición; 6. Epitaxia; 7. Deposición química del vacío; 8. Vigas de energía; 9. Plasmas de descarga luminosa; 10. Análisis de la película.
I tiakina i:
| Kaituhi matua: | |
|---|---|
| Hōputu: | Pukapuka |
| Reo: | Ingarihi |
| I whakaputaina: |
Boston, EUA :
McGraw-Hill,
1995, c1995
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| Ngā marau: | |
| Ngā Tūtohu: |
Kāore He Tūtohu, Me noho koe te mea tuatahi ki te tūtohu i tēnei pūkete!
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MARC
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| 100 | |a Smith, Donald L. |e (autor) | ||
| 245 | 1 | 0 | |a Thin-Film Deposition : |b Principles and Practice / |c D.L. Smith. |
| 264 | 4 | |a Boston, EUA : |b McGraw-Hill, |c 1995, c1995 | |
| 300 | |a XXIII, 616 p. | ||
| 336 | |a texto |b txt |2 rdacontenido | ||
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| 520 | |a Contenido: 1. Tecnología de las películas delgadas; 2. Cinética del gas; 3. Tecnología del vacío; 4. Evaporación; 5. Deposición; 6. Epitaxia; 7. Deposición química del vacío; 8. Vigas de energía; 9. Plasmas de descarga luminosa; 10. Análisis de la película. | ||
| 521 | |a Peticiones 2017 | ||
| 649 | |a XX | ||
| 650 | |a Circuitos Integrados | ||
| 650 | |a Láser | ||
| 650 | |a Plasma (Gases Ionizados) | ||
| 650 | |a Películas Delgadas - |x Tema Principal | ||
| 650 | |a Sedimentación - |x Tema Principal | ||
| 650 | |a Vacío - |x Tecnología | ||
| 650 | |a Fenómenos Superficiales | ||
| 650 | |a Superficies (Física) | ||
| 650 | |a Nanotecnología | ||
| 650 | |a Microtecnología | ||
| 650 | |a Fisicoquímica | ||
| 650 | |a Ingeniería | ||
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