Thin-Film Deposition : Principles and Practice /
Contenido: 1. Tecnología de las películas delgadas; 2. Cinética del gas; 3. Tecnología del vacío; 4. Evaporación; 5. Deposición; 6. Epitaxia; 7. Deposición química del vacío; 8. Vigas de energía; 9. Plasmas de descarga luminosa; 10. Análisis de la película.
Պահպանված է:
| Հիմնական հեղինակ: | |
|---|---|
| Ձևաչափ: | Գիրք |
| Լեզու: | անգլերեն |
| Հրապարակվել է: |
Boston, EUA :
McGraw-Hill,
1995, c1995
|
| Խորագրեր: | |
| Ցուցիչներ: |
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
|
Նմանատիպ նյութեր: Thin-Film Deposition :
- Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies /
- Low Temperature Plasma Physics : Fundamental Aspects and Applications /
- Surface Treatment : Computer Methods and Experimental Measurements /
- Laser-Aided Diagnostics of Plasmas and Gases /
- La teoría cinética de un plasma diluido ionizado /
- Classical and Statistical Thermodynamics /